JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B

期刊基本信息

期刊名称：JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B
期刊级别： Science Citation Index Expanded (SCIE)
期刊ISSN：1071-1023
期刊EISSN：N/A
简称：J VAC SCI TECHNOL B
影响因子：1.2
实时影响因子：截止2025年5月19日：1.202
五年影响因子：1.3
JCI期刊引文指标：0.26
h-index：暂无h-index数据
2024-2025自引率：8.30%
期刊官方网站：http://avspublications.org/jvstb/
期刊投稿网址：http://jvstb.peerx-press.org/cgi-bin/main.plex
是否OA开放访问：No
出版商：A V S AMER INST PHYSICS
出版年份：1991

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B

Science Citation Index Expanded (SCIE)

期刊介绍

Journal of Vacuum Science & Technology B emphasizes processing, measurement and phenomena associated with micrometer and nanometer structures and devices. Processing may include vacuum processing, plasma processing and microlithography among others, while measurement refers to a wide range of materials and device characterization methods for understanding the physics and chemistry of submicron and nanometer structures and devices.

投稿要求

通讯方式：A V S AMER INST PHYSICS, STE 1 NO 1, 2 HUNTINGTON QUADRANGLE, MELVILLE, USA, NY, 11747-4502
涉及的研究方向：工程技术-工程：电子与电气
出版国家或地区：UNITED STATES
出版语言：English
年文章数：185
PubMed Central (PMC)链接：http://www.ncbi.nlm.nih.gov/nlmcatalog?term=1071-1023%5BISSN%5D
平均录用比例：容易

CITESCORE

暂无CiteScore数据

WOS期刊JCR分区

WOS分区等级：4区

按JIF指标学科分区	收录子集	JIF分区	JIF排名	JIF百分位
学科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC	SCIE	Q4	289/366	21.2%
学科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY	SCIE	Q4	131/147	11.2%
学科：PHYSICS, APPLIED	SCIE	Q4	155/187	17.4%

按JCI指标学科分区	收录子集	JCI分区	JCI排名	JCI百分位
学科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC	SCIE	Q4	292/366	20.36%
学科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY	SCIE	Q4	123/147	16.67%
学科：PHYSICS, APPLIED	SCIE	Q4	151/187	19.52%

期刊分区表预警名单

2025年03月发布的2025版：不在预警名单中

2024年02月发布的2024版：不在预警名单中

2023年01月发布的2023版：不在预警名单中

2021年12月发布的2021版：不在预警名单中

2020年12月发布的2020版：不在预警名单中

中科院2025年3月升级版

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综述期刊

工程技术 4区

ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：电子与电气	2区3区4区
NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 纳米科技	2区4区4区
PHYSICS, APPLIED 物理：应用	1区2区4区

否

中科院2023年12月旧的升级版